 |
展示会では、パワーデバイス、イメージセンサー、メモリ、ロジックデバイス市場の新たなニーズを満たすように設計されたPurionおよびGSD Ovationシリーズのイオン注入装置を紹介
マサチューセッツ州ビバリー, 2022年11月30日 /PRNewswire/ -- 半導体業界向けのイオン注入ソリューションを提供する大手サプライヤーのアクセリス・テクノロジーズ社（Nasdaq：ACLS）は本日、SEMICON Japan 2022展示会でPurion™およびGSD Ovation™シリーズのイオン注入装置についての展示をすることを発表しました。会議と展示会は、12月14日から16日まで、日本の東京ビッグサイトで開催されます。アクセリスのブース番号は5640です。
アクセリスの展示では、半導体メーカーの方々が、技術面および製造面において大きな利点をもたらすイオン注入技術による革新的なソリューションに直接触れることができます。
- Purion Power™シリーズ - パワーデバイスに必要な全領域に対応すべくAxcelis社のシリコン（Si）およびシリコンカーバイド（SiC）用の革新的なソリューションを搭載しています。
- Purion H™シリーズ - 新しいPurion H5™、Purion H200™、Purion Dragon™は高電流イオン注入の要求に対して包括的なソリューションを提供するように設計されています。
- Purion XE™シリーズ - 新しいPurion XEmax™を含む、業界をリードする高エネルギー注入プラットフォームであり、特許取得済みのBoost Technology™を備え、最大15MeVの最先端イメージセンサー用途向けに設計されています。
- Purion M™シリーズ - 極めて広範囲であり進化を続ける中電流イオン注入への要求に対して比類のない柔軟性を提供します。
- GSD Ovation™ - 最高の信頼性、保守性そして優れたCoOを有する高電流高エネルギーバッチ式プラットフォーム機能によりもっとも優れた費用対効果を提供します。
アクセリス・テクノロジーズの社長兼CEOであるメアリー・プーマは、次のように述べています。「当社は、この重要で成長を続ける市場に参加し、日本のチップメーカーに最先端のイオン注入技術を提供して、パワーデバイス、イメージセンサー、メモリ、ロジックデバイスに対する堅調な需要をサポートする機会を得られることを嬉しく思います。」
アクセリスの日本カントリーマネージャー、ペチュレスキー・チャールズのコメントは、「当社は、日本での納入装置ベースが拡大していることを嬉しく思います、新規および既存のお客様の双方に革新的な技術を提供してお客様の成功に確実に貢献することで、更なる市場シェアを拡大することに注力し続けています。日本のお客様からはアクセリスのPurionおよびGSD Ovationイオン注入技術が提供する幅広い製品ラインアップと高性能な機能に対して引き続き強い関心をお寄せいただいています。」
アクセリスについて：
マサチューセッツ州ビバリーに本社を置くアクセリス（Nasdaq：ACLS）は、40年以上にわたる半導体業界に革新的で生産性の高いソリューションを提供してきました。アクセリスは、IC製造プロセスにおいて最も重要で不可欠な工程の一つであるイオン注入システムの設計、製造、および完全なライフサイクルサポートを通じて、プロセスアプリケーションを実現する開発に従事しています。アクセリスの詳細については、www.axcelis.comをご覧ください。
アクセリスの連絡先：
日本：
中島・良樹（テクニカル・マーケティング、日本）092.260.3345
その他の地域：
Maureen Hart（記事／メディア）+1.978.787.4266
Doug Lawson（インベスター・リレーションズ）+1.978.787.9552
ロゴ - https://mma.prnasia.com/media2/1756239/Axcelis_Logo.jpg?p=medium600
